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核心工艺 NVIDIA明年上马45nm芯片 |
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2007年04月24日 23:03 eNet硅谷动力
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Fudzilla网站报道，NVIDIA目前正在研发它的45nm工艺图形芯片。当然，NVIDIA今年将尽快把图形芯片工艺过渡到65nm，但是到2008年底，NVIDIA将拿出45nm图形芯片。
NVIDIA计划首先将芯片工艺从65nm过渡到55nm，这是比较容易实现的光学蚀刻半制程的过渡。然后，NVIDIA将把图形芯片工艺从55nm过渡到45nm。Intel已经宣布，它将在今年第4季度到明年第1季度，将处理器生工艺转换到45nm。AMD将在明年年中启用45nm。但是对仍然依赖TSMC台积电代工的ATI和NVIDIA来说，过渡到45nm工艺，则最早是明年下半年的事情。
45nm可以将图形芯片Die面积控制在15mmx15mm，同时在DIE内集成13.5亿晶体管，芯片集成度比65nm提升2倍。
对图形芯片厂商来说，45nm之后是2010年的32nm工艺。
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