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Intel大陆厂制程 将大幅领先台积电 |
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2007年03月18日 23:19 eNet硅谷动力
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目前,Intel已经获得了在我国大连建造90nm制程新工厂的许可,近日,TSMC董事长张忠谋对Intel可能在大连设厂一事进行了评价,他认为,Intel大陆厂在2年后工艺将进入65nm时代,从而大幅领先于TSMC。
"张忠谋强调,英特尔这座厂单月产能高达5.2万片,且是要做90奈米制程,其实英特尔计划将此厂用来生产比最先进技术晚个1~2代制程,或许现在最先进制程指的是45奈米制程,但2年后最先进制程很可能达到32奈米制程,届时英特尔大连厂就可能採65奈米制程量产,这对台积电的讯息就是:「英特尔在大陆制程比台积电要先进很多」。
张忠谋说,目前台湾半导体制程开放议题还停留在0.18微米制程阶段上,虽然他已经把0.18微米制程当做是开放了,但实际上目前仍在申请中,如果政府政策再不更往前,未来英特尔在大陆厂制程技术就会领先台积电。"
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